Эволюция микроэлектроники: ключевые этапы развития
Презентация выполнена преподавателем ГБПОУ УКРТБ Рыжиковым А. И. с помощью «Гамма» — нейросеть для презентаций.
Рождение электроники: вакуумные трубки и первые открытия
1883
Эффект Эдисона: Открытие явления термоэлектронной эмиссии, ставшее фундаментом для создания вакуумных трубок.
1904
Клапан Флеминга: Джон Амброз Флеминг изобретает первую практичную вакуумную трубку, используемую для детектирования радиоволн.
1906
Триод де Фореста: Ли де Форест создает триод "Аудион", способный усиливать электрические сигналы, что открыло путь к современной электронике.
Вакуумные трубки стали краеугольным камнем для развития радио, телевидения и первых поколений компьютеров, заложив основы электронной эры.
Революция 1947 года: изобретение транзистора
Лаборатории Bell
Компактность и надёжность
Джон Бардин, Уолтер Браттейн и Уильям Шокли разработали первый работоспособный точечный транзистор.
Транзистор заменил громоздкие и недолговечные вакуумные трубки, значительно уменьшив размер электронных устройств.
Начало цифровой эры
Изобретение транзистора дало старт развитию портативных радиоприёмников, слуховых аппаратов и первых вычислительных машин, предвещая цифровую революцию.
1958–1960: Рождение интегральной схемы и начало микроэлектроники
1958: Идея Килби
Джек Килби из Texas Instruments создал первую интегральную схему , объединив несколько компонентов на одном полупроводниковом кристалле.
1961: Патент Нойса
Роберт Нойс из Fairchild Semiconductor запатентовал планарную технологию производства ИС, сделав возможным их массовое производство.
1962: Первая МОП-схема
В RCA разработали первую МОП-микросхему, что стало важным шагом к созданию сложных цифровых устройств.
Это привело к появлению микроэлектроники — отрасли, которая позволила упаковать тысячи и миллионы транзисторов на один крошечный чип.
Закон Мура: экспоненциальный рост возможностей
Формулировка закона (1965)
Гордон Мур, сооснователь Intel, предсказал, что число транзисторов на интегральной схеме будет удваиваться примерно каждые 1-2 года.
Поразительный рост
К 2010 году на одном чипе размещалось уже более миллиарда транзисторов, что привело к увеличению производительности в 10 000 раз.
Снижение энергопотребления
Одновременно с ростом производительности энергопотребление на единицу вычисления снизилось в миллионы раз.
Двигатель прогресса
Закон Мура стал главной движущей силой всей индустрии микроэлектроники, стимулируя инновации и удешевление технологий.
Технологические процессы: от микрометров к нанометрам
2
1
Современные нанометры
Начало: 10 мкм
В 1960-х годах размер элементов в микросхемах составлял около 10 микрометров.
Сегодня передовые техпроцессы достигают 5 нм, 3 нм и даже 1,6 нм (TSMC, Samsung, Intel).
3
4
300 мм пластины
Трёхмерные транзисторы
Увеличение диаметра кремниевых пластин до 300 мм значительно повысило эффективность производства.
Переход от планарных структур к FinFET и GAAFET позволяет создавать более эффективные и плотные чипы.
Транзисторы FinFET и GAAFET: новые архитектуры
Фин-подобный канал
Затвор вокруг канала
GAAFET
FinFET
Лучший контроль утечек
Трёхмерная структура
GAAFET: Затвор со всех сторон
FinFET: Трёхмерная конструкция
- Снижает токи утечки.
- Окружает канал со всех сторон для максимального контроля тока.
- Повышает плотность размещения элементов на чипе.
- Дальнейшее улучшение масштабирования и производительности.
- Улучшает производительность и энергоэффективность.
- Ожидается массовое внедрение с 2025 года.
Эти инновации преодолевают физические ограничения классической миниатюризации, открывая новые горизонты для развития микроэлектроники.
ASIC и FPGA: эволюция специализированных микросхем
FPGA: Гибкость
ASIC: Специализация
Появились в 1980-х для выполнения конкретных задач с высокой эффективностью.
Программируемые логические матрицы, позволяющие пользователю настраивать их функциональность.
SoC: Интеграция
Применение
Современные Системы на Чипе объединяют на одном кристалле процессоры, память, графику и ИИ-ускорители.
ASIC стали основой для сетевого оборудования, устройств для майнинга криптовалют и мобильных устройств, обеспечивая высокую производительность.
Российский вклад и научные достижения
Нобелевская премия Жореса Алфёрова (2000 г.)
За разработку полупроводниковых гетероструктур для высокоскоростной оптоэлектроники, изменивших мир лазеров и светодиодов.
Институт физики полупроводников РАН
Ведущий центр исследований в области полупроводниковых технологий, работающий над новыми материалами и устройствами.
Научные коллективы
Множество российских ученых и инженеров вносят вклад в развитие микроэлектроники, работая над прорывными технологиями будущего.
Россия продолжает развивать свою научно-техническую базу, внося значимый вклад в глобальную микроэлектронику.
Будущее микроэлектроники: вызовы и перспективы
Новые парадигмы
Поиск альтернатив закону Мура: квантовые и нейроморфные чипы.
1,6-нм техпроцесс
GAAFET как новый стандарт для следующего поколения микросхем.
ИИ и 5G
Рост вычислительной мощности для развития искусственного интеллекта и 5G сетей.
Интернет вещей
Микроэлектроника - фундамент для развития Интернета вещей и цифровой экономики.
Будущее микроэлектроники обещает быть захватывающим, открывая двери для новых технологических прорывов и инноваций.


УЧЕБНЫЕ МАТЕРИАЛЫ ПО ПРЕДМЕТУ ЭЛЕКТРОТЕХНИКА И ЭЛЕКТРОНИКА. Микроэлектроника ключевые этапы развития (16.64 MB)

